|
|
| Acesso ao texto completo restrito à biblioteca da Embrapa Mandioca e Fruticultura. Para informações adicionais entre em contato com cnpmf.biblioteca@embrapa.br. |
Registro Completo |
Biblioteca(s): |
Embrapa Mandioca e Fruticultura. |
Data corrente: |
13/01/2014 |
Data da última atualização: |
13/01/2014 |
Tipo da produção científica: |
Resumo em Anais de Congresso |
Autoria: |
PÁTRIA, F. M. F. da; COELHO FILHO, M. A.; SOARES, T. M.; GIRARDI, E. A.; SOARES FILHO, W. dos S.; GESTEIRA, A. da S. |
Afiliação: |
F. M. F. DA PÁTRIA; MAURICIO ANTONIO COELHO FILHO, CNPMF; TALES MILER SOARES; EDUARDO AUGUSTO GIRARDI, CNPMF; WALTER DOS SANTOS SOARES FILHO, CNPMF; ABELMON DA SILVA GESTEIRA, CNPMF. |
Título: |
Growth in hydroponic cultivation of citrus genotypes subjected to salt stress. |
Ano de publicação: |
2013 |
Fonte/Imprenta: |
In: WORKSHOP ON BIOTIC AND ABIOTIC STRESS TOLERANCE IN PLANTS, 2013, Ilhéus. The challenge for the 21st century: book of abstracts. [S.l.]: International Advanced Biology Consortium, 2013. Online. |
Idioma: |
Inglês |
Notas: |
S02P10. |
Conteúdo: |
The objective of this study was to evaluate the salt tolerance of citrus genotypes in hydroponic conditions. |
Thesagro: |
Fruta cítrica. |
Thesaurus Nal: |
Citrus; Hydroponics. |
Categoria do assunto: |
-- |
Marc: |
LEADER 00900nam a2200217 a 4500 001 1975744 005 2014-01-13 008 2013 bl uuuu u00u1 u #d 100 1 $aPÁTRIA, F. M. F. da 245 $aGrowth in hydroponic cultivation of citrus genotypes subjected to salt stress.$h[electronic resource] 260 $aIn: WORKSHOP ON BIOTIC AND ABIOTIC STRESS TOLERANCE IN PLANTS, 2013, Ilhéus. The challenge for the 21st century: book of abstracts. [S.l.]: International Advanced Biology Consortium, 2013. Online.$c2013 500 $aS02P10. 520 $aThe objective of this study was to evaluate the salt tolerance of citrus genotypes in hydroponic conditions. 650 $aCitrus 650 $aHydroponics 650 $aFruta cítrica 700 1 $aCOELHO FILHO, M. A. 700 1 $aSOARES, T. M. 700 1 $aGIRARDI, E. A. 700 1 $aSOARES FILHO, W. dos S. 700 1 $aGESTEIRA, A. da S.
Download
Esconder MarcMostrar Marc Completo |
Registro original: |
Embrapa Mandioca e Fruticultura (CNPMF) |
|
Biblioteca |
ID |
Origem |
Tipo/Formato |
Classificação |
Cutter |
Registro |
Volume |
Status |
URL |
Voltar
|
|
| Acesso ao texto completo restrito à biblioteca da Embrapa Instrumentação. Para informações adicionais entre em contato com cnpdia.biblioteca@embrapa.br. |
Registro Completo
Biblioteca(s): |
Embrapa Instrumentação. |
Data corrente: |
21/08/2003 |
Data da última atualização: |
24/02/2010 |
Autoria: |
CARVALHO, A. T.; CARVALHO, A. M.; SILVA, M. L. P.; DEMARQUETTE, N. R.; ASSIS, O. B. G. |
Afiliação: |
Embrapa Instrumentação Agropecuária, São Carlos, SP. |
Título: |
Evaluation of organosilicon combined deposition for hydrophobic coatings of beans. |
Ano de publicação: |
2002 |
Fonte/Imprenta: |
In: MATTOSO, L. H. C.; LEÃO, A.; FROLLINI, E. (Ed.). Natural polymers and compósites IV. [São Carlos: EMBRAPA: USP; S.l.: UNESP, 2002]. 4 f. 1 CD-ROM. |
Idioma: |
Inglês |
Conteúdo: |
Three different wet and cold-plasma treatments were used in order to create hydrophobic layers on beans surface. Hexamethyldisilazane (HDMS) was the precursor solution for based organosilicon composition film formation. Structures such as SiCH3 and Si2CH2 were identified as composing the surface after plasma treatments. Ultra-violet exposure promoted corsslinking in the polymeric film but no interference in hydrophobic properties was found. Combination of HDMS vapor plus 5 minutes plasma showed the best result in avoiding beans germination in wet environmental condition. |
Palavras-Chave: |
Coated beans; Cold plasma; Moisture barrier; Organosilicon layers. |
Categoria do assunto: |
-- |
Marc: |
LEADER 01298naa a2200217 a 4500 001 1024755 005 2010-02-24 008 2002 bl --- 0-- u #d 100 1 $aCARVALHO, A. T. 245 $aEvaluation of organosilicon combined deposition for hydrophobic coatings of beans. 260 $c2002 520 $aThree different wet and cold-plasma treatments were used in order to create hydrophobic layers on beans surface. Hexamethyldisilazane (HDMS) was the precursor solution for based organosilicon composition film formation. Structures such as SiCH3 and Si2CH2 were identified as composing the surface after plasma treatments. Ultra-violet exposure promoted corsslinking in the polymeric film but no interference in hydrophobic properties was found. Combination of HDMS vapor plus 5 minutes plasma showed the best result in avoiding beans germination in wet environmental condition. 653 $aCoated beans 653 $aCold plasma 653 $aMoisture barrier 653 $aOrganosilicon layers 700 1 $aCARVALHO, A. M. 700 1 $aSILVA, M. L. P. 700 1 $aDEMARQUETTE, N. R. 700 1 $aASSIS, O. B. G. 773 $tIn: MATTOSO, L. H. C.; LEÃO, A.; FROLLINI, E. (Ed.). Natural polymers and compósites IV. [São Carlos: EMBRAPA: USP; S.l.: UNESP, 2002]. 4 f. 1 CD-ROM.
Download
Esconder MarcMostrar Marc Completo |
Registro original: |
Embrapa Instrumentação (CNPDIA) |
|
Biblioteca |
ID |
Origem |
Tipo/Formato |
Classificação |
Cutter |
Registro |
Volume |
Status |
Fechar
|
Nenhum registro encontrado para a expressão de busca informada. |
|
|