Data/hora: 18/06/2024 04:31:38

Biblioteca(s): | Embrapa Arroz e Feijão.
Data corrente: | 16/11/2022
Data da última atualização: | 06/02/2024
Autoria: | SILVA, L. I. D. M.
Afiliação: | LETÍCIA IANNACONE DI MAIO SILVA.
Título: | Potencial genético de germoplasma elite de feijão carioca para resistência ao mofo-branco.
Ano de publicação: | 2019
Fonte/Imprenta: | 2019.
Páginas: | 66 f.
Idioma: | Português
Notas: | Dissertação (Mestrado em Genética e Melhoramento de Plantas) - Escola de Agronomia, Universidade Federal de Goiás, Goiânia. Orientador: Thiago Lívio Pessoa Oliveira de Souza, CNPAF; Coorientadora: Patrícia Guimarães Santos Melo, UFG.
Conteúdo: | O feijão-comum (Phaseolus vulgaris L.) representa uma importante fonte de proteínas e fibras na alimentação humana e o Brasil destaca-se na produção e consumo dessa leguminosa, especialmente as de grãos do tipo comercial carioca. A incidência de mofo-branco, uma das doenças mais destrutivas do feijoeiro, está entre os fatores responsáveis pela redução da produtividade e aumento de custos de produção, sobretudo em cultivos irrigados de inverno, nos quais as condições microclimáticas, como temperaturas amenas e umidade elevada, contribuem para maior intensidade da doença. São poucas as cultivares ou linhagens pré-comerciais de feijão que possuem resistência parcial, portanto, os objetivos desse trabalho foram: (i) caracterizar cultivares e linhagens elite de feijão carioca quanto à reação ao mofo-branco em campo e em ambiente controlado, visando selecionar fontes de resistência e (ii) estimar parâmetros genéticos e número de genes controlando a reação ao mofo-branco em ambiente controlado.
Palavras-Chave: | Mixed models; Modelos mistos.
Thesagro: | Feijão; Mofo Branco; Parâmetro Genético; Phaseolus Vulgaris; Resistência Genética; Sclerotinia Sclerotiorum.
Thesaurus Nal: | Beans; Genetic resistance; Germplasm.
Categoria do assunto: | G Melhoramento Genético
Registro original: | Embrapa Arroz e Feijão (CNPAF)
Exemplares: | CNPAF - (36556-1) - UPA - TS - DD - 2019 -  - 2019 - DIS