Data/hora: 22/06/2024 04:15:19

Biblioteca(s): 	Embrapa Florestas.	
Data corrente: 	01/04/2009	
Data da última atualização: 	01/04/2009	
Autoria: 	ROSSI, V. L.; AMARANTE, C. V. T. do; FLEIG, F. D.	
Título: 	Crescimento e qualidade de mudas de Pinus taeda L. submetidas à poda química de raízes.	
Ano de publicação: 	2008	
Fonte/Imprenta: 	Ciência Florestal, Santa Maria, v. 18, n.3/4, p. 435-442, set./dez. 2008.	
Idioma: 	Português	
Conteúdo: 	O presente trabalho teve como objetivo avaliar os efeitos da poda química de raízes com sulfato de cobre, oxicloreto de cobre e ethefon (ácido 2-cloroetilfosfônico) sobre o crescimento e qualidade de mudas de Pinus taeda L. produzidas em tubetes. Os tratamentos à base de sulfato de cobre ou oxicloreto de cobre foram feitos nos tubetes (antes da sua utilização para preenchimento com substrato e semeadura), por meio
da sua imersão em uma mistura de partes iguais de água e tinta látex comum, contendo 0, 12, 24, 36 e 48g de cobre L-1 de solução (tinta + água). O ethefon foi aplicado via aérea em mudas com 10-15cm de altura nas concentrações de 0, 50, 75, 100 e 125 mg (i.a.) L-1. Foi utilizado o delineamento em blocos ao acaso com cinco repetições. Considerando as fontes de cobre testadas, apenas o sulfato de cobre ocasionou redução
significativa na massa seca total do sistema radicular, pela inibição do desenvolvimento de raízes secundárias, bem como no diâmetro do colo e na altura e massa secada parte aérea, com o aumento da dose aplicada. O incremento nas doses de sulfato de cobre ocasionou aumento maior na concentração de cobre presente no substrato em relação ao oxicloreto de cobre. O incremento nas doses de oxicloreto de cobre não causou redução na massa seca total do sistema radicular, mas promoveu aumento no número de raízes secundárias, concentradas especialmente nas porções mediana e superior do sistema radicular. O sulfato de cobre reduziu a emissão de raízes laterais, o mesmo fato não ocorrendo com o oxicloreto de cobre. Dessa forma, o incremento nas doses de oxicloreto de cobre parece apresentar efeito positivo em relação ao sulfato de cobre, já que um sistema radicular com maior número de raízes secundárias curtas é desejável visando estabelecimento das mudas a campo. O incremento nas doses de ethefon pulverizado na parte aérea das mudas ocasionou aumento significativo no acúmulo de massa seca de raiz primária e no número de raízes secundárias presentes nas porções mediana (efeito linear) e inferior (efeito quadrático) do sistema radicular. Não houve efeito de dose do ethefon sobre os demais atributos de crescimento analisados. 	
Palavras-Chave: 	Ácido 2-cloroetilfosfônico; Crescimento radicular; Morfologia de muda.	
Thesagro: 	Cobre.	
Categoria do assunto: 	--	
Registro original: 	Embrapa Florestas (CNPF)	
Exemplares: 	CNPF - (44982-1) - ADD - AP - -- -  -  -  - DIS