02196naa a2200217 a 450000100080000000500110000800800410001910000180006024500660007826000090014430000150015352015310016865300190169965300110171865300240172965300130175370000270176670000150179370000220180877301480183010269471999-12-22       1995    bl uuuu     u00u1 u    #d1 aPONTES, R. S.  aEfeito do campo eletrico na formacao de filmes auto-montados.  c1995  ap.263-264.  aFilmes automontados (self-assembly) (SA) sao formados pela adsorcao espontanea de camadas alternadas de materiais polimericos, cationicos e anionicos sobre substratos solidos. Essa adsorcao ocorre devido a interacao eletrostatica entre as cadeias polimericas de sinais opostos. Portanto, e de se esperar que a aplicacao de um campo eletrico externo apropriado venha facilitar a deposicao de camadas. Por isso, iniciou-se um projeto para investigar o seu efeito no processo de adsorcao. Foi utilizado vidro condutor (ITO) como substrato e depositadas camadas alternadas de acido polivinil sulfonico (PVS) e poli(o-metoxianilina) (POMA), partindo de solucoes de concentracao de 0.01M e pH=3. Ao contrario do que ocorre com substratos de vidro comum, oara o ITO deve-se depositar primeiramente uma camada de PVS. Comprovou-se que a aplicacao de um campo de cerca de 3 V/cm aumenta consideravelmente a adsorcao de PVS, e consequentemente de POMA numa proxima camada. Em algumas experiencias com campos mais elevados (30 V/cm), verificou-se que ha formacao de um filme extremamente espesso e de cor cinzenta. Esta cor denota que a POMA provavelmente foi degradada devido a superoxidacao. Efeitos similares, mas em menor proporcao, sao observados para campos de 10 V/cm. Experiencias estao sendo feitas para verificar a influencia de outros parametros importantes para a deposicao. O objetivo final e empregar campos eletricos como agentes controladores da fabricacao de filmes com arquiteturas variadas para aplicacoes especificas.  aCampo eletrico  aEfeito  aFilmes automontados  aFormacao1 aOLIVEIRA JUNIOR, O. N.1 aRAPOSO, M.1 aMATTOSO, L. H. C.  tIn: ENCONTRO NACIONAL DE FISICA DA MATERIA CONDENSADA, 18., jun. 1995, Caxambu, MG. Resumos... Sao Paulo: Sociedade Brasileira de Fisica, 1995.