02175naa a2200253 a 450000100080000000500110000800800410001902200140006010000260007424501300010026000090023030000090023952014040024865000290165265300190168170000190170070000200171970000260173970000200176570000180178570000180180370000180182177300820183921274112020-12-02 2020 bl uuuu u00u1 u #d a2179-68581 aSILVA, M. de S. A. da aGermination of Macroptilium lathyroides seeds as a function of the presence of salts on the substrate.h[electronic resource] c2020 a7 p. aAs plantas daninhas são espécies adaptadas evolutivamente para o desenvolvimento em áreas de distúrbio, provocadas ou não pelo homem. Para adoção de práticas de controle e manejo integrado de plantas daninhas, torna-se imprescindível o conhecimento de aspectos relacionados à germinação e dos fatores ambientais que interferem nos processos germinativos das sementes. Nesse contexto, o presente trabalho teve como objetivo avaliar comportamento de sementes de Macroptilium lathyroides sob efeito de diferentes níveis de potenciais osmóticos induzidos por soluções de NaCl e CaCl2. O experimento foi organizado em delineamento inteiramente casualizado, no esquema fatorial 2 x 6, constituídos por 2 sais em 6 concentrações, com 4 repetições. As sementes foram mantidas em caixas gerbox sobre papéis umedecidos com soluções de NaCl e CaCl2, nos potenciais hídricos de 0,0; -0,2; -0,4; -0,6; -0,8 e -1,0 MPa. Foram realizadas avaliações diárias de germinação, IVG e no final de dez dias, foram determinados comprimento da parte aérea, comprimento radicular e massa seca de plântula. Os resultados demonstraram que o estresse salino induzido pela solução de NaCl e CaCl2 provocam redução gradativa na germinação das sementes de M. lathyroides, não havendo limite de tolerância. O sal NaCl foi mais crítico no desenvolvimento radicular e peso seco das plântulas. aMacroptilium lathyroides aPlanta daninha1 aYAMASHI, O. M.1 aROSSI, A. A. B.1 aCARVALHO, M. A. C. de1 aSILVA, I. V. da1 aSÁ, M. E. de1 aCONCENÇO, G.1 aDALLACORT, R. tRevista Ibero-Americana de Ciências Ambientaisgv. 11, n. 2, Fev./Mar. 2020.