Data/hora: 03/06/2024 08:30:59

Biblioteca(s): | Embrapa Instrumentação.
Data corrente: | 01/02/2006
Data da última atualização: | 01/02/2006
Autoria: | SOUZA, A. L.; LEITE, F. L.; HERRMANN, P. S. P.; RODRIGUES FILHO, U. P.
Título: | Tailoring silicon surfaces aminoalkoxysilanes and phosphotungstic acid hybrid films.
Ano de publicação: | 2005
Fonte/Imprenta: | In: WOKSHOP DA PÓS-GRADUAÇAO, 9.; 2005, São Carlos. A contribuição do IQSC para a inovação e o desenvolvimento científico e tecnológico. Resumos... São Carlos: IQSC, 2005. p. 152.
Idioma: | Inglês
Conteúdo: | In the earlier 80's the pioneer work of Sagiv has introduced the formation of self-assembly monolayer (SAM) with siloxane compounds [1], opening a whole new area for the application of these compounds. A wide variety of organosilanes has been used in the chemical modification of the surfaces aminopropyltriethoxysilane (APTS), N-(3-(trimethoxysilyl)-propyl)-ethylenodiamine (TSPEN) and their hybrid fulms with 12-tugstophosphoric acid on oxidized silicon wafer surface, SiO2/Si(100).
Palavras-Chave: | AFM; Aminoalkoxysilanes.
Thesaurus Nal: | phosphotungstic acid.
Categoria do assunto: | --
Registro original: | Embrapa Instrumentação (CNPDIA)
Exemplares: | CNPDIA - (9374-1) - UPC - SP - -- - PROCI-05.00114 -  - 2005.00114 - DIS