Data/hora: 06/06/2024 13:17:16

Biblioteca(s): 	Embrapa Instrumentação.	
Data corrente: 	01/02/2006	
Data da última atualização: 	01/02/2006	
Autoria: 	SOUZA, A. L. de; LEITE, F. de L.; HERRMANN JUNIOR, P. S. P.; RODRIGUES FILHO, U. P.	
Título: 	Tailoring surfaces using aminoalkoxysilanes and phosphotungstic acid, characterized by the use of the atomic force microscopy.	
Ano de publicação: 	2005	
Fonte/Imprenta: 	In: LATIN AMERICAM SYMPOSIUM ON SCANNING PROBE MICROSCOPY, 3., 2005, Ouro Preto. [Anais eletrônicos...]. Ouro Preto: SBMN, 2005. 1 CD-ROM.	
Idioma: 	Inglês	
Conteúdo: 	In the earlier 80's the pioneer work of Sagiv has introduced the formation of self-assembly monolayer (SAM) with siloxane compounds [1], opening a whole new area for the application of these compounds. A wide variety of organosilanes has been used in the chemical modification of the surfaces aminopropyltriethoxysilane (APTS), N-(3-(trimethoxysilyl)-propyl)-ethylenodiamine (TSPEN) and their hybrid fulms with 12-tugstophosphoric acid on oxidized silicon wafer surface, SiO2/Si(100).	
Palavras-Chave: 	AFM; SAM; TSPEN.	
Categoria do assunto: 	--	
Registro original: 	Embrapa Instrumentação (CNPDIA)	
Exemplares: 	CNPDIA - (9373-1) - UPC - SP - -- - PROCI-05.00113 -  - 2005.00113 - DIS