Data/hora: 11/06/2024 20:45:51

Biblioteca(s): | Embrapa Instrumentação.
Data corrente: | 21/08/2003
Data da última atualização: | 24/02/2010
Autoria: | CARVALHO, A. T.; CARVALHO, A. M.; SILVA, M. L. P.; DEMARQUETTE, N. R.; ASSIS, O. B. G.
Afiliação: | Embrapa Instrumentação Agropecuária, São Carlos, SP.
Título: | Evaluation of organosilicon combined deposition for hydrophobic coatings of beans.
Ano de publicação: | 2002
Fonte/Imprenta: | In: MATTOSO, L. H. C.; LEÃO, A.; FROLLINI, E. (Ed.). Natural polymers and compósites IV. [São Carlos: EMBRAPA: USP; S.l.: UNESP, 2002]. 4 f. 1 CD-ROM.
Idioma: | Inglês
Conteúdo: | Three different wet and cold-plasma treatments were used in order to create hydrophobic layers on beans surface. Hexamethyldisilazane (HDMS) was the precursor solution for based  organosilicon composition film formation. Structures such as SiCH3 and Si2CH2 were identified as composing the surface after plasma treatments. Ultra-violet exposure promoted corsslinking in the polymeric film but no interference in hydrophobic properties was found. Combination of  HDMS vapor plus 5 minutes plasma showed the best result in avoiding beans germination in wet environmental condition.
Palavras-Chave: | Coated beans; Cold plasma; Moisture barrier; Organosilicon layers.
Categoria do assunto: | --
Registro original: | Embrapa Instrumentação (CNPDIA)
Exemplares: | CNPDIA - (7962-1) - UPC - SP - -- - PROCI-02.00106 -  - 2002.00106 - DIS