Data/hora: 30/05/2024 01:06:12

Biblioteca(s): | Embrapa Instrumentação.
Data corrente: | 13/09/2005
Data da última atualização: | 13/02/2012
Autoria: | ASSIS, O. B. G.; ALVES, C. R.
Título: | Complementary analysis by atomic force microscopy of sol-gel films processed by dip-coating technique.
Ano de publicação: | 2001
Fonte/Imprenta: | Acta Microscopica, Maracaibo, v. 10, p. 153-156, apr. 2001. Supplement 1. First Latin American Symposium on Scanning Microscopy, São Pedro, SP, apr. 2001.
Idioma: | Inglês
Conteúdo: | The morphology and additional surface features of SiO2 films processed via sol-gel were evaluated by atomic force microscopy. Two sintering temperatures, 550 and 650 C were used for densification of gels deposited by dip-coating technique onto Ni plates.
Palavras-Chave: | Filmes Finos; sol-gel.
Thesaurus Nal: | silica gel.
Categoria do assunto: | --
Registro original: | Embrapa Instrumentação (CNPDIA)
Exemplares: | CNPDIA - (8968-1) - UPC - SP - -- - PROCI-01.00063 -  - 2001.00063 - DIS